一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置
基本信息
| 申请号 | CN201720520263.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN206736403U | 公开（公告）日 | 2017-12-12 |
| 申请公布号 | CN206736403U | 申请公布日 | 2017-12-12 |
| 分类号 | C30B15/00(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 马四海;张笑天;马青;朱光开;丁磊 | 申请（专利权）人 | 安徽易芯半导体有限公司 |
| 代理机构 | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 | 代理人 | 安徽易芯半导体有限公司 |
| 地址 | 230000 安徽省合肥市新站区新蚌埠路3768号佳海工业城一期D84D85幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置，其特征在于：包括有中空的伸缩套杆，所述伸缩套杆的端部安装有支撑台，所述支撑台的外周边分布有间隔设置的支撑杆，所述支撑杆的端部分别安装有清洁刷头，所述清洁刷头包括有弧形刷头、锥形刷头、平面刷头，所述支撑台的中部安装有与伸缩套杆内孔连通且可转动的中空细杆，所述中空细杆以及伸缩套杆之间贯穿一个细长的软管，所述软管的头部设有多个圆形喷孔。本实用新型针对副室炉体内壁表面结构设计使用3种形状的弹性刷头更好的清理不同表面的氧化物，每一处清理到位，提高了清炉的效率，其操作方便简单，可以节省操作人员的劳动强度，满足了使用要求。 |
