一种图形化Ag薄膜的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110103618.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112875640A | 公开（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申请公布号 | CN112875640A | 申请公布日 | 2021-06-01 |
| 分类号 | B81C1/00;B81B1/00;C23F1/02 | 分类 | 微观结构技术〔7〕; |
| 发明人 | 李国强 | 申请（专利权）人 | 河源市众拓光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 广州容大知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 何雪霞 |
| 地址 | 517000 广东省河源市高新技术开发区高新五路、泥金路西边 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种图形化Ag薄膜的制备方法，该制备方法包括以下步骤：制备Ag薄膜；在Ag薄膜表面预形成图形化样式的部分涂覆光刻胶；将Ag薄膜未涂覆光刻胶的部分进行氧化处理至该部分转变成Ag2O薄膜；将Ag2O薄膜进行腐蚀处理至Ag2O薄膜消失；将剩余带有光刻胶的Ag薄膜进行光刻胶去除，即得。本发明可精准控制Ag薄膜上图形化部分的样式和尺寸，并且应用在芯片上可以提高芯片的电性能或者光反射率。此外，本发明的制备方法工艺稳定，腐蚀一致性好，适合批量化生产。 |
