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一种掩膜板、制备及其应用

基本信息

申请号	CN202110453539.2	申请日	-
公开（公告）号	CN113201710A	公开（公告）日	2021-08-03
申请公布号	CN113201710A	申请公布日	2021-08-03
分类号	C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	茆胜	申请（专利权）人	睿馨（珠海）投资发展有限公司
代理机构	上海洞鉴知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘少伟
地址	519000 广东省珠海市横琴新区宝华路6号105室-32897（集中办公区）
法律状态	-

摘要

本发明涉及一种掩膜板、制备及其应用，掩膜板包括至少两层：第一掩膜层和第二掩膜层；所述第一掩膜层含有残余拉应力的第一材料；所述第二掩膜层含有残余压应力的第二材料；所述第一掩膜层和第二掩膜层都保留了其在刚性基板上形成时残余应力的特征；当所述掩膜板释放其内部残余应力，所述第二掩膜层横向膨胀，所述第一掩膜层横向收缩，所述掩膜板被残余应力共同作用达到最低的应变能状态。有益效果是：本发明的结构使得掩膜板的应力零位面从其结构中间位置产生偏移，从而产生垂直于掩膜板面的力矩。当应用时，由于应力作用补偿了重力对掩膜板结构的影响，从而减少了阴影效应的影响，提高了材料沉积的图案化精度，使得高分辨率的直接图案化技术成为可能。