一种具有多层结构的掩膜板
基本信息
| 申请号 | CN202110455191.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113186490A | 公开（公告）日 | 2021-07-30 |
| 申请公布号 | CN113186490A | 申请公布日 | 2021-07-30 |
| 分类号 | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 茆胜 | 申请（专利权）人 | 睿馨（珠海）投资发展有限公司 |
| 代理机构 | 上海洞鉴知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 刘少伟 |
| 地址 | 519000 广东省珠海市横琴新区宝华路6号105室-32897（集中办公区） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种具有多层结构的掩膜板，所述掩膜板包括至少两层，并且具有至少一个开口；第一掩膜层与基板的距离小于第二掩膜层与基板的距离；所述第一掩膜层的开口横截面小于第二掩膜层的开口横截面；这样蒸发的材料通过所述第二掩膜层进入所述第一掩膜层，最后沉积在所述基板上。有益效果是：本发明的掩膜板采用开口的入口大于出口的设计，能够有效减少蒸发材料的阴影效果；该掩膜板由于开口的设计，使得第二掩膜层可以做的比较厚，能够有效支撑第一掩膜层，所以能克服现有掩膜板的脆弱性和下垂问题。 |
