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一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置

基本信息

申请号	CN201920096195.2	申请日	-
公开（公告）号	CN209873098U	公开（公告）日	2019-12-31
申请公布号	CN209873098U	申请公布日	2019-12-31
分类号	C23C16/50（2006.01）; C23C16/455（2006.01）	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	杨福年; 郑锡文	申请（专利权）人	东莞市和域战士纳米科技有限公司
代理机构	深圳市智圈知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	东莞市和域战士纳米科技有限公司
地址	523000 广东省东莞市塘厦镇宏业北路99A16号
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置，包括与PECVD设备连接的通气固定底座，通气固定底座的中心轴向上延伸一段并向外展开形成有伞型锥状支撑体，伞型锥状支撑体上端连接有分散座与多个分散片，多个分散片均匀分散连接在分散座的外表面，通气固定底座上在中心轴外周围设置有多个通气孔，分散座内为中空的并通过连接片连接设置在分散座中心的中心通孔座，多个分散片的底部倾斜角度设置为分散片与分散座的中心轴线方向呈5‑35度。本实用新型通过伞型锥状支撑体和多个分散片的设置，有益气体快速有效分散进入真空腔蒸汽，确保工件表面纳米防水膜均匀分布，该分散装置可以长期耐180℃高温环境工作，结构设计紧凑合理，方便拆装与维护。