一种提高PECVD设备抽真空效率的装置
基本信息
| 申请号 | CN201920208490.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209537624U | 公开（公告）日 | 2019-10-25 |
| 申请公布号 | CN209537624U | 申请公布日 | 2019-10-25 |
| 分类号 | C23C16/513（2006.01）I; C23C16/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 杨福年; 郑锡文 | 申请（专利权）人 | 东莞市和域战士纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市智圈知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 东莞市和域战士纳米科技有限公司 |
| 地址 | 523000 广东省东莞市塘厦镇宏业北路99A16号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种提高PECVD设备抽真空效率的装置，包括壳体和设置在壳体上的盖板，壳体的外侧设置有冷凝盘管，壳体内的底部设置有加热器；所述盖板还设置有一根进气管和出气管，壳体底部连接有一根排液管；所述进气管上连接有进气阀，排液管上设置有排液阀。本实用新型中通过设置设置壳体和冷凝盘管等，可以将PECVD设备的真空仓体抽出的气体进行降温，将其中的杂质降温结晶从而从气体中分离，进入真空泵的气体不含结晶物，保证真空泵正常运行，从而提高了PECVD设备抽真空效率。 |
