一种纳米处理时端口快速遮蔽装置
基本信息
| 申请号 | CN201920095124.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209873091U | 公开（公告）日 | 2019-12-31 |
| 申请公布号 | CN209873091U | 申请公布日 | 2019-12-31 |
| 分类号 | C23C16/04（2006.01）; C23C16/513（2006.01） | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 杨福年; 郑锡文 | 申请（专利权）人 | 东莞市和域战士纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市智圈知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 东莞市和域战士纳米科技有限公司 |
| 地址 | 523000 广东省东莞市塘厦镇宏业北路99A16号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种纳米处理时端口快速遮蔽装置，包括与端口接触的基体，基体的下表面向内凹陷形成有凹槽，凹槽的基面中心向下凸起形成有凸台，凸台的中心形成有用于PECVD真空镀膜纳米处理的孔洞，基体为圆柱体型，凹槽、凸起、孔洞的横截面均为圆形，该端口快速遮蔽装置整体是由氟橡胶混炼硫化一体成型而得。本实用新型有益于PECVD真空纳米防水镀膜处理遮蔽时纳米分子与端口接触避免外观变色，防止端口损伤，也降低了成本，易于装配，遮蔽效果好，克服了目前一直难以解决的端口纳米防水处理的外观瑕疵和不良品问题。 |
