一种应对应力影响套刻误差的方法和系统
基本信息
| 申请号 | CN202110617362.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113376971A | 公开（公告）日 | 2021-09-10 |
| 申请公布号 | CN113376971A | 申请公布日 | 2021-09-10 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I;H01L21/027（2006.01）I;H01L21/66（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 马恩泽;韦亚一;张利斌 | 申请（专利权）人 | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
| 代理机构 | 南京苏博知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 朱凤平 |
| 地址 | 211899江苏省南京市浦口区江浦街道浦滨路320号科创一号大厦B座21楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种应对应力影响套刻误差的方法和系统，通过光刻机在实施曝光之前获得晶圆表面的形貌数据，并进行套刻误差量测；对晶圆表面的形貌数据和套刻误差量测数据相关性进行判断；对相关性阈值大小进行相关的补值计算；以相关性数值对应的百分比例反馈到光刻机，可以实现当前批次实时反馈，且每一片的数据均存在，即每一片晶圆的数据拟合后可以马上前反馈给当前的晶圆，而不需要像后反馈那样有一个周期的滞后性。 |
