一种筛选光学系统像差敏感度的方法
基本信息
| 申请号 | CN202111448235.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114114853A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN114114853A | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 刘畅;董立松;张世鑫;韦亚一 | 申请（专利权）人 | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
| 代理机构 | 南京苏博知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 赖忠辉 |
| 地址 | 211899江苏省南京市浦口区江浦街道浦滨路320号科创一号大厦B座21楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及光学系统技术领域，具体涉及一种筛选光学系统像差敏感度的方法，通过基于光刻曝光系统针对的图层特征设计测试图形和设定光刻曝光的工艺条件并建立包含光刻曝光质量特征的评价函数，并对光刻曝光质量变化进行评估，得到评估结果；基于评估结果改变光刻投影系统的波像差分布，并对光刻曝光质量进行仿真，结合评价函数完成波像差参数的敏感度分析，得到敏感度分析结果；设置与评价函数对应的敏感度阈值，并对敏感度分析结果中的阈值以上的泽尼克项进行筛选，得到筛选结果；对筛选结果进行控制，得到满足光刻成像性能指标的像差分布，解决了传统的波像差控制方法获得波像差分布的速度较慢的问题。 |
