一种复合镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202022752385.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214361671U | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN214361671U | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）I;C23C14/32（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/16（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 冯森;蹤雪梅;何冰 | 申请（专利权）人 | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘艳艳 |
| 地址 | 221004江苏省徐州市徐州经济技术开发区驮蓝山路26号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种复合镀膜装置，包括真空室和位于真空室内的工件转架，真空室内集成有离子束源、脉冲电弧离子源和磁过滤电弧离子源；离子束源用于清洗工件或者辅助沉积；脉冲电弧离子源用于激发石墨靶材，产生碳离子，沉积Ta‑C碳膜；磁过滤电弧离子源用于激发金属靶材，产生金属离子，沉积金属薄膜、合金薄膜或化合物薄膜。本装置将离子束技术、磁过滤离子镀与脉冲离子镀三种技术集成于一个真空室，提供多种镀膜方式，实现多功能性和结构性先进薄膜制备，具有功能丰富、扩展性强的特点，适用于开展科学研究及工业领域多样性生产。尤其利用该装置可高效率制备低应力、高结合强度、结构与性能可调控的Ta‑C碳膜。 |
