一种改进型ALD镀膜机
基本信息
| 申请号 | 2020207527897 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212388110U | 公开（公告）日 | 2021-01-22 |
| 申请公布号 | CN212388110U | 申请公布日 | 2021-01-22 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I; | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郑锦;薛传洲;倪明;李蕊;吴俊冉 | 申请（专利权）人 | 南京原磊纳米材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京专赢专利代理有限公司 | 代理人 | 李斌 |
| 地址 | 211800江苏省南京市浦口区桥林街道步月路29号12幢305 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型适用于原子层镀膜领域，具体是一种改进型ALD镀膜机，包括在内部安装有拿持结构的传送放置通道，和多个放置腔体；其中，所述拿持结构可对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中；还包括多个ALD反应器；进而，拿持结构对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中，并利用盒体可对盒体及晶圆进行翻转，移动到ALD反应器中进行单原子层沉积工艺反应，进行镀膜；以及多个放置腔体和多个ALD反应器可同时进行多个晶圆镀膜，效率得以提高；可对多个ALD反应器做不同的介电常数材料的生长，实现了多种材料工艺交替的镀膜处理，无需更换生产线，提高效率的基础上节省生产线的成本。 |
