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一种半均相阴离子交换膜的制造方法

基本信息

申请号 CN201510569663.X 申请日 -
公开（公告）号 CN106512761A 公开（公告）日 2017-03-22
申请公布号 CN106512761A 申请公布日 2017-03-22
分类号 B01D71/72(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I 分类 一般的物理或化学的方法或装置;
发明人 卿波;莫剑雄 申请（专利权）人 杭州华恒膜技术有限公司
代理机构 杭州千克知识产权代理有限公司 代理人 周希良
地址 311121 浙江省杭州市余杭区仓前街道龙泉路22号3幢202室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种半均相阴离子交换膜的制造方法，按如下步骤进行：1)将可热塑的聚乙烯‑季胺化聚苯乙烯基阴离子交换复合树脂粉、不可热塑的交联季胺化聚苯乙烯阴离子交换树脂粉、聚乙烯粉和聚异丁烯粉按照配比混合；2)依次经过密炼机熔融共混、两辊开炼机出片、四辊机连续压延、冷辊机冷却、裁断机裁剪而得到单张的预制膜；3)在预制膜的上下表面覆盖增强网布、经过热压机压制而得到所述的半均相阴离子交换膜产品。本发明制得的阴离子交换膜产品，内部的起阴离子交换作用的季胺基团彼此相连接而不间断，因此，膜面电阻大幅降低。各种成膜材料之间的相容性良好、结合紧密，膜的选择透过率更高，其综合性能明显优于常规的异相阴离子交换膜。