商标进度
商标申请
2007-11-19
初审公告
2010-04-27
已注册
2010-07-28
2
终止
2020-07-27
商标详情
| 商标 |
低
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| 商标名称 | 低维材料及其应用技术教育部重点实验室；湘潭大学;KEYLAB OF LOWDIMENSIONAL MATERIALS APPLICAFION TECHNOLOGYXIANGTAN UNIVERSITY MINISTRY OF EDUCATION | 商标状态 | 商标无效 |
| 申请日期 | 2007-11-19 | 申请/注册号 | 6386674 |
| 国际分类 | 40类-材料加工 | 是否共有商标 | 否 |
| 申请人名称（中文） | 湘潭大学 | 申请人名称（英文） | - |
| 申请人地址（中文） | 湖南省湘潭市西郊 | 申请人地址（英文） | - |
| 商标类型 | 商标注册申请---打印注册证 | 商标形式 | - |
| 初审公告期号 | 1213 | 初审公告日期 | 2010-04-27 |
| 注册公告期号 | 6386674 | 注册公告日期 | 2010-07-28 |
| 优先权日期 | - | 代理/办理机构 | 长沙市弘铭知识产权代理有限公司 |
| 国际注册日 | - | 后期指定日期 | - |
| 专用权期限 | 2010-07-28-2020-07-27 | ||
| 商标公告 | - | ||
| 商品/服务 |
金属电镀(4002)
金属处理(4002)
电镀(4002)
研磨加工(4002)
研磨抛光(4002)
镀锌(4002)
镀镍(4002)
激光切割(4002)
焊接(4002)
废物处理(变形)(4012)
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| 商标流程 |
2007-11-19
商标注册申请---申请收文
2008-01-07
商标注册申请---打印受理通知
2010-08-16
商标注册申请---打印注册证 |
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