一种硅基发光二极管结构及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202110799492.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113257972A | 公开(公告)日 | 2021-08-13 |
申请公布号 | CN113257972A | 申请公布日 | 2021-08-13 |
分类号 | H01L33/38;H01L33/00 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 邓群雄;郭文平;王晓宇 | 申请(专利权)人 | 元旭半导体科技股份有限公司 |
代理机构 | 济南诚智商标专利事务所有限公司 | 代理人 | 郑宪常 |
地址 | 261000 山东省潍坊市高新区玉清街以北银枫路以西光电园第三加速器西区 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明属于LED芯片技术领域,提供了一种硅基发光二极管结构,包括通过绝缘填充区域分割为N电极区域和P电极区域的硅基衬底,N电极区域和P电极区域的硅基衬底底面分别设有N焊接电极、P焊接电极;N电极区域的硅基衬底正面由下而上依次设有N‑GaN层、量子阱层、P‑GaN层和透明导电层,透明导电层上方设有覆盖绝缘填充区域的钝化绝缘层,钝化绝缘层上方设有延伸并覆盖至P电极区域硅基衬底的P电极传输层,P电极传输层通过钝化绝缘层上的暴露区分别与透明导电层、P电极区域的硅基衬底接触连接。本发明无需焊线即可实现与封装基板的电气相连,不用考虑抗物质扩散及性能不稳定、可焊性差等问题,且能够依据需求制作为所需的异形外观结构。 |
