二氢吡啶类药物降解杂质的合成方法
基本信息
| 申请号 | CN202110317960.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113045426A | 公开（公告）日 | 2021-06-29 |
| 申请公布号 | CN113045426A | 申请公布日 | 2021-06-29 |
| 分类号 | C07C201/12;C07C201/16;C07C205/45;C07C205/49 | 分类 | 有机化学〔2〕; |
| 发明人 | 何银杰;高砚芳;袭祥明;王震;孟猛;肖培印 | 申请（专利权）人 | 济南纽华医药科技有限公司 |
| 代理机构 | 济南克雷姆专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 杨婷 |
| 地址 | 250000 山东省济南市中国（山东）自由贸易试验区济南片区颖秀路2766号生产楼602-668室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于有机合成技术领域，具体涉及一种二氢吡啶类药物降解杂质的合成方法，以3‑硝基苯甲醛和丙酮磷酸二甲酯为原料反应获得中间体1，然后依次与乙酰乙酸甲酯和多聚磷酸进行反应，最终获得降解杂质I和降解杂质II，降解杂质I的收率为30‑35％，纯度达到97％以上，降解杂质II的收率25‑30％，纯度达到97％以上。本发明通过化学合成方法制备出高纯度的二氢吡啶类药物降解杂质I和降解杂质II，可进一步用于降解杂质I和降解杂质II的药理和毒理研究，对二氢吡啶类药物杂质副作用研究提供样品支持，同时可以作为二氢吡啶类药物有关物质HPLC分析用杂质工作标准品。 |
