一种采用复合电子阻挡层的深紫外LED外延结构
基本信息
申请号 | CN201610624642.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN107689406A | 公开(公告)日 | 2018-02-13 |
申请公布号 | CN107689406A | 申请公布日 | 2018-02-13 |
分类号 | H01L33/14;H01L33/06 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 吴真龙;田宇;郑建钦;李鹏飞 | 申请(专利权)人 | 南通同方半导体有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 226015 江苏省南通市经济技术开发区东方大道499号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种采用复合电子阻挡层的深紫外LED外延结构,属于半导体光电子领域。本发明结构包括衬底层、成核层、AlN层、N型AlGaN层、AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN多量子阱有源层、复合电子阻挡层、P型AlGaN层和P型GaN层。其结构特点是,所述复合电子阻挡层分为两层,其与多量子阱有源层接触一侧为AlN阻挡层,其与P型AlGaN层接触一侧为高Al组分AlzGa1‑zN阻挡层,y |
