高熵硼硅陶瓷材料等离子热喷涂制备梯度陶瓷涂层的方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

高熵硼硅陶瓷材料等离子热喷涂制备梯度陶瓷涂层的方法

基本信息

申请号	CN202111235250.X	申请日	-
公开（公告）号	CN114000091A	公开（公告）日	2022-02-01
申请公布号	CN114000091A	申请公布日	2022-02-01
分类号	C23C4/134（2016.01）I;C23C4/02（2006.01）I;C23C4/04（2006.01）I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	邰召山	申请（专利权）人	兆山科技（北京）有限公司
代理机构	上海恩凡知识产权代理有限公司	代理人	吴尧晓
地址	101300北京市顺义区高丽营镇金马园二街164号
法律状态	-

摘要

本发明公开了高熵硼硅陶瓷材料等离子热喷涂制备梯度陶瓷涂层的方法，高熵硼硅陶瓷材料组分及研磨后的粒径处于10‑20um的范围，涂层制备方法包括以下步骤：步骤一、基面处理，对基材表面剖光的同时制造表面锚纹处于50‑70um；步骤二、对基材进行预热和保温；步骤三、原料混合，研磨和过筛；步骤四、保护气体；步骤五、将过筛后的高熵硼硅陶瓷混合粉加入送粉器，并调节设备参数；步骤七、等离子喷涂，制得高熵硼硅陶瓷复合涂层，本发明通过对表面锚纹和陶瓷材料研磨粒径的把控，提升了涂层与基面间的附着力，又通过设计电弧的功率（30‑40KW）、供粉速度（160‑180g/min）和喷涂距离（70‑80mm）、角度（85‑95度）间的参数之间的配合来进一步提升陶瓷涂层强度、韧性、耐冲击和耐磨性能。