一种高性能的碳化硅陶瓷材料低温烧结方法

基本信息

申请号 CN202011631832.5 申请日 -
公开(公告)号 CN112608158A 公开(公告)日 2021-04-06
申请公布号 CN112608158A 申请公布日 2021-04-06
分类号 C04B35/64(2006.01)I;C04B35/565(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I 分类 水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料〔4〕;
发明人 邰召山 申请(专利权)人 兆山科技(北京)有限公司
代理机构 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 乐俊
地址 101300北京市顺义区高丽营镇金马园二街164号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种高性能的碳化硅陶瓷材料低温烧结方法,步骤如下:制备烧结助剂,所述烧结助剂由锌h和氟硅酸锌组成;称取碳化硅和烧结助剂,球磨混合获,然后进行负压蒸干后,粉碎,过筛,并模压成型,获得坯体;将坯体送入气氛烧结炉中,升温至460‑470℃,保温2‑3h,然后向气氛烧结炉内通入空气,升温至1800‑1940℃,保温2‑3h,随炉冷却后,即可。本发明制备的碳化硅陶瓷材料致密度良好,且具有良好的抗弯强度,烧结温度低,降低了制造过程中的能耗,能够满足市场需求,具有广阔的市场前景。