金属离子注入设备内动态水冷系统
基本信息
| 申请号 | CN200910015430.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101886250A | 公开（公告）日 | 2010-11-17 |
| 申请公布号 | CN101886250A | 申请公布日 | 2010-11-17 |
| 分类号 | C23C14/48(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王桂岳;赵松强;栾庚祖 | 申请（专利权）人 | 龙口市比特真空技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 265702 山东省龙口市北马镇青年路1号龙口市比特真空技术有限公司 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明具体涉及一种用于真空设备内动态状况下冷却的金属离子注入设备内动态水冷系统。其特征是：外套外侧设有进、出水口，通过内套的进、出水孔及进出水管与工件托盘内腔体相连通，又通过串联水管使多个工件托盘相连通。因而具有工件定位准确、束斑范围内注入离子均匀、工件温升小、几何形状稳定，保证工件表面硬度和耐磨性等优点。 |
