晶圆的测试结构
基本信息

| 申请号 | CN202122645820.4 | 申请日 | - |
| 公开(公告)号 | CN216084883U | 公开(公告)日 | 2022-03-18 |
| 申请公布号 | CN216084883U | 申请公布日 | 2022-03-18 |
| 分类号 | H01L23/544(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;G01R31/26(2014.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 刘恩峰 | 申请(专利权)人 | 北京燕东微电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京成创同维知识产权代理有限公司 | 代理人 | 蔡纯;张靖琳 |
| 地址 | 100176北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路51号院1号楼5层516 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要

| 摘要 | 本专利申请公开一种晶圆的测试结构,该测试结构中的每个测试单元包括:相邻且分隔的多个第一掺杂区与多个第二掺杂区;以及多个栅极结构,沿第一方向,多个第一掺杂区与多个栅极结构间隔排布,第二掺杂区与第一掺杂区对应分布在多个栅极结构之间,第一方向垂直于晶圆的厚度方向,多个栅极结构包括第一栅极和多个第一伪栅极,沿第一方向,位于第一栅极两侧的第一掺杂区分别为第一源区和第一漏区,两侧的第二掺杂区分别为第二源区和第二漏区,第一源区、第一漏区、第二源区、第二漏区以及第一栅极分别连接至对应的测试电极,并且多个第一伪栅极与测试电极电隔离。通过形成多个伪栅极结构,从而模拟半导体器件中的多个栅极,提高了测试的准确率。 |





