一种雾面超轻离型膜
基本信息
| 申请号 | CN202122112968.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215850112U | 公开（公告）日 | 2022-02-18 |
| 申请公布号 | CN215850112U | 申请公布日 | 2022-02-18 |
| 分类号 | B32B27/36（2006.01）I;B32B27/32（2006.01）I;B32B3/30（2006.01）I;B32B33/00（2006.01）I;C08J7/04（2020.01）I;C09J7/40（2018.01）I;C08L67/02（2006.01）N;C08L23/06（2006.01）N;C08L23/12（2006.01）N | 分类 | 层状产品; |
| 发明人 | 王方志;王宇柯;王海生;刘晓阳 | 申请（专利权）人 | 世星科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州佳捷天诚知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 魏孝廉 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市锡山区鹅湖镇工业园区柏桥路88号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种雾面超轻离型膜，涉及离型膜领域，包括基材，所述基材的一面上涂敷有硅离型剂层，所述硅离型剂层远离基材的一面上均匀设置有凹凸结构。本实用新型中的凹凸结构一方面用于形成硅离型剂层表面的雾面，另一方面便于硅离型剂层表面排气，通过改变凹凸结构的厚度调节硅离型剂层与物体之间的剥离力，满足要求比较特殊的胶带或者特殊模切加工时需的超轻要求。本实用新型可以根据需求增加防静电层。 |
