一种显微成像设备以及纳米尺度三维形貌测量系统
基本信息
| 申请号 | CN202111134261.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113568153A | 公开（公告）日 | 2021-10-29 |
| 申请公布号 | CN113568153A | 申请公布日 | 2021-10-29 |
| 分类号 | G02B21/02（2006.01）I;G02B21/04（2006.01）I;G02B21/36（2006.01）I;G01B11/24（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 吴征宇 | 申请（专利权）人 | 板石智能科技（武汉）有限公司 |
| 代理机构 | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 黄君军 |
| 地址 | 430000湖北省武汉市东湖开发区关山一路1号华中曙光软件园恒隆大楼F幢207号（自贸区武汉片区）（一址多照） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及一种显微成像设备以及纳米尺度三维形貌测量系统，显微成像设备包括显微镜、4F系统以及相机；所述4F系统包括两个透镜组以及电控变焦透镜；两个所述透镜组分别为第一透镜组和第二透镜组；两个所述透镜组均为反远距结构的傅里叶变换物镜；所述显微镜的镜片、第一透镜组、电控变焦透镜、第二透镜组以及相机的镜片依次设置于同一光轴上；所述第一透镜组以及所述第二透镜组对称设置于所述电控变焦透镜两侧；所述显微镜的像平面位于所述第一透镜组的前焦面，所述电控变焦透镜位于所述第一透镜组的后焦面以及所述第二透镜组的前焦面，所述相机位于所述第二透镜组的后焦面。本申请具有成像像差小、效率高的技术效果。 |
