一种成形微透镜列阵结构的方法
基本信息
| 申请号 | CN200710176012.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101144978B | 公开（公告）日 | 2010-12-08 |
| 申请公布号 | CN101144978B | 申请公布日 | 2010-12-08 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 杜春雷;董小春;史立芳;邓启凌 | 申请（专利权）人 | 四川中科铭源光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人 | 贾玉忠;卢纪 |
| 地址 | 610209 四川省双流350信箱 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种成形微透镜列阵结构的方法，其步骤为：(1)选择基底，在其表面涂布抗蚀剂层；(2)将涂有抗蚀剂层的基底进行前烘处理；(3)对三维微透镜列阵目标面形进行抽样，设计掩模；(4)采用上述设计的掩模，进行曝光；(5)将曝光后的基底进行显影和后烘；(6)通过反应离子刻蚀RIE工艺将面形传递到所述基底上。本发明可以成形各种面形以及各种口径形状的微透镜阵列，且工艺简单、效率高。 |
