一种多元合金靶材及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202111242398.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114000113A | 公开(公告)日 | 2022-02-01 |
申请公布号 | CN114000113A | 申请公布日 | 2022-02-01 |
分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C30/00(2006.01)I;B22F3/15(2006.01)I;B22F3/10(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 张凤戈;张学华;魏铁峰;岳万祥;张欠男;高众 | 申请(专利权)人 | 北京安泰六九新材料科技有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 100089北京市海淀区学院南路76号17幢一层101室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请涉及粉末冶金材料的技术领域,具体公开了一种多元合金靶材及其制备方法。一种多元合金靶材,由以下原子百分比的元素组成,镍20‑35%、钒20‑25%、钼20‑25%、钨20‑35%。其制备方法:首先将钼粉与镍粉混料制备成MoNi合金粉末,再将MoNi合金粉末与其他粉末进行混料,最后进行HIP烧结和机加工。本申请制备的靶材具有致密度高,可达99%以上、合金化程度高,无气孔和偏析,组织均匀等优点。另外,本申请的制备方法能够使熔点不同的元素进行HIP烧结,并且能保证熔点不同的元素在靶材中所占比例达到要求。 |
