一种去除低氘洗靶水中内毒素及杂质离子的方法
基本信息
| 申请号 | CN201510615563.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105130083A | 公开（公告）日 | 2015-12-09 |
| 申请公布号 | CN105130083A | 申请公布日 | 2015-12-09 |
| 分类号 | C02F9/10(2006.01)I | 分类 | 水、废水、污水或污泥的处理; |
| 发明人 | 谷宏森;周建跃;肖斌;秦川江;刘严;李猷;林轶凡;池毅;蒋琮琪;王杰 | 申请（专利权）人 | 上海联泓同位素科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海科盛知识产权代理有限公司 | 代理人 | 上海化工研究院;上海联泓同位素科技有限公司;上海化工研究院有限公司 |
| 地址 | 200062 上海市普陀区云岭东路345号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种去除低氘洗靶水中内毒素及杂质离子的方法。先利用两级蒸馏除去低氘洗靶水粗原料中的部分内毒素及杂质离子，再经过超滤膜过滤去除低氘洗靶水中的剩余的内毒素。与现有技术相比，本发明在保证低氘洗靶水中氘元素(D)丰度不升高、最终产品不引入其他杂质离子的前提下，先利用两级蒸馏除去低氘洗靶水中的部分内毒素及杂质离子，再经过超滤膜过滤，去除低氘洗靶水中的剩余的绝大部分内毒素，实现低氘洗靶水中内毒素含量及杂质离子含量的达标。本发明工艺简便，保证了产品质量，并对低氘洗靶水损耗较少。 |
