清洗槽
基本信息
| 申请号 | CN201621018596.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN206083241U | 公开（公告）日 | 2017-04-12 |
| 申请公布号 | CN206083241U | 申请公布日 | 2017-04-12 |
| 分类号 | B08B3/02(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 汤卫民 | 申请（专利权）人 | 上海泰特实业有限公司 |
| 代理机构 | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 黄冠华 |
| 地址 | 200000 上海市青浦区金泽镇莲湖路53号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种清洗槽，包括一底壁和垂直设置在底壁上的4个侧壁，其中，底壁的下方设置有气缸装置，气缸装置带动底壁上下运动，底壁上还设置有换能器装置，4个侧壁中左右相对设置的2个侧壁的顶部设置有喷淋装置，4个侧壁中前后相对设置的2个侧壁的底部设置有下给水装置。本实用新型通过在清洗槽上设置气缸装置、换能器装置、喷淋装置以及下给水装置，从而实现清洗槽的一体化设计，与现有技术中的清洗槽相比，可以实现的功能更多，效率更高，更节约资源，对晶片生产过程中的移动次数更少，从而达到提高成品率，提高生产效率，节约资源的目的。 |
