硅片碱抛光用添加剂及其应用
基本信息
| 申请号 | CN202111279549.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114032035A | 公开（公告）日 | 2022-02-11 |
| 申请公布号 | CN114032035A | 申请公布日 | 2022-02-11 |
| 分类号 | C09G1/04（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 裴银强;章圆圆;陈培良 | 申请（专利权）人 | 常州时创能源股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 213300江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片碱抛光用添加剂，其各组分的含量为：0.5～2质量份明胶、1～2质量份丙烯酰胺、0.5～2质量份季铵盐、1～3质量份对氨基水杨酸钠、4～5质量份硫氰酸铵、3～4质量份烷基糖苷、0.1～0.3质量份苯甲酸钠、81.7～89.9质量份水。在硅片碱抛光的抛光液中添加本发明的添加剂，能改变[111]/[100]面的反应速率，抑制[100]面的反应速度，能改变硅片背面平整度，能使碱抛光后硅片背面形成相对粗糙的小尺寸塔基状结构，小幅度降低硅片背面反射率，这有利于背面浆料接触，提升浆料拉力，还能使FF得以提升，提高电池片电性能。 |
