平面光波导及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110566627.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113433617A | 公开（公告）日 | 2021-09-24 |
| 申请公布号 | CN113433617A | 申请公布日 | 2021-09-24 |
| 分类号 | G02B6/122（2006.01）I;G02B6/13（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I;C23C16/505（2006.01）I;C23C16/40（2006.01）I;C23C16/04（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 徐良;曹力力;蓝文安;刘圣龙;刘建哲;余雅俊;夏建白;李京波 | 申请（专利权）人 | 浙江博蓝特半导体科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京辰权知识产权代理有限公司 | 代理人 | 佟林松 |
| 地址 | 321000浙江省金华市南二环西路2688号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种平面光波导及其制备方法，该平面光波导包括由下至上依次层叠的基板、纳米热压印胶层、第一包层、波导芯层和第二包层；所述纳米热压印胶层的表面形成有多个凹槽；所述第一包层形成于所述凹槽的侧壁、底壁和所述纳米热压印胶层的上表面；所述波导芯层填充所述凹槽，并且与所述纳米热压印胶层之间由所述第一包层间隔开；所述第二包层作为所述平面光波导的外表面覆盖所述第一包层和所述波导芯层。本发明中的平面光波导通过在基板上设置纳米热压印胶层，并在纳米热压印胶层上形成波导芯层，能够避免使用刻蚀和离子扩散等传统工艺，降低工艺成本，减少污染，进一步推进PLC光器件产业的发展。 |
