一种陶瓷基片研磨抛光机
基本信息
| 申请号 | CN202120657600.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214980190U | 公开（公告）日 | 2021-12-03 |
| 申请公布号 | CN214980190U | 申请公布日 | 2021-12-03 |
| 分类号 | B24B37/08（2012.01）I;B24B37/11（2012.01）I;B24B37/28（2012.01）I;B24B37/34（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 张晓云;方豪杰;贺亦文;肖汉宁;李专;杨现锋 | 申请（专利权）人 | 湖南省嘉利信陶瓷科技有限公司 |
| 代理机构 | 长沙大珂知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 伍志祥 |
| 地址 | 417600湖南省娄底市新化高新区向红工业园特种陶瓷产业园一期C2栋二、三层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种陶瓷基片研磨抛光机，包括底座，所述底座上部固定有气缸和立柱，所述气缸的输出轴上固定有弹性支座，所述弹性支座底部固定有第三连杆，所述第三连杆端部固定有滑块，所述滑块与立柱上的滑槽滑动连接，所述弹性支座上部固定有下研磨盘，所述下研磨盘中部固定有限位杆，所述限位杆上通过轴承转动连接有限位盘，所述限位盘上开设有多个圆形限位口，所述限位盘上表面设有与限位杆同心的第一齿轮环，所述立柱上部固定有安装梁，本实用新型能够有效提高加工效率，且提高研磨抛光质量。 |
