一种超短焦抗光结构的制作方法
基本信息
| 申请号 | CN201811531764.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109696794B | 公开（公告）日 | 2021-04-13 |
| 申请公布号 | CN109696794B | 申请公布日 | 2021-04-13 |
| 分类号 | G03B21/60(2014.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 廖巧生;黄少云 | 申请（专利权）人 | 湖南省谛源光学科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京中索知识产权代理有限公司 | 代理人 | 宋涛 |
| 地址 | 264000山东省烟台市高新区经三路36号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及短焦投影技术领域，提供了一种超短焦抗光结构的制作方法，包括在基板上模压出的光学微结构的表面上均匀沉积金属材料形成反射层；在反射层上均匀覆盖光阻材料；选定区域进行曝光；显影去除被曝光的光阻材料，露出所述区域内的反射层；刻蚀掉露出的反射层上的金属材料，形成抗光侧；去除剩余的光阻材料，露出反射层，得所述抗光结构。借此，本发明通过在光学微结构上均匀沉积金属材料，再在金属材料上覆盖光阻材料；之后对选定区域内的光阻材料进行曝光、显影，再去除掉露出的金属材料，形成抗光侧；最后去除剩余的光阻材料形成反射层。获得了特定分布的反射层结构，避免了现有技术的缺陷，得到了高品质的抗光结构。 |
