一种便于清理的化学机械抛光设备
基本信息
| 申请号 | CN201911211969.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110877286A | 公开（公告）日 | 2020-03-13 |
| 申请公布号 | CN110877286A | 申请公布日 | 2020-03-13 |
| 分类号 | B24B37/10;B24B37/34;B24B57/02 | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 董兴超 | 申请（专利权）人 | 盐城恒远投资发展有限公司 |
| 代理机构 | 深圳灵顿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 深圳市安达工业设计有限公司;盐城恒远投资发展有限公司 |
| 地址 | 518021 广东省深圳市罗湖区桂园街道松园社区松园路68号鸿翔花园7栋B座518 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种便于清理的化学机械抛光设备，包括底座和产品，所述底座内部开设有第一固定槽，其中，所述第一固定槽内部安装有滴液分配器，所述滴液分配器顶部连接有第一滴液管，靠近第一滴液管的所述滴液分配器顶部连接有第二滴液管，靠近第一固定槽的所述底座内部安装有第一电机，所述第一电机一侧套接有第一旋转块。该便于清理的化学机械抛光设备设置有产品在打磨时第二滴液管会将打磨液输送到打磨垫上，打磨垫会将打磨后的打磨液流淌到打磨槽内，以便打磨槽可以将打磨液输送到导向槽内，由导向槽将打磨液输送到储存槽内，从而产品打磨结束后可以将储存槽与第一连接槽进行分离，方便储存槽可以将打磨后的杂质与打磨液进行清理。 |
