蒸镀坩埚及蒸镀装置
基本信息
| 申请号 | CN202023343505.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214881793U | 公开（公告）日 | 2021-11-26 |
| 申请公布号 | CN214881793U | 申请公布日 | 2021-11-26 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;C23C14/04（2006.01）I;H01L51/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 林文晶;轩景泉;王辉;马晓宇 | 申请（专利权）人 | 上海升翕光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 肖丽 |
| 地址 | 200540上海市金山区夏宁路666弄62号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及蒸镀设备技术领域，提供了一种蒸镀坩埚及蒸镀装置，前者包括坩埚本体和颈筒；坩埚本体为顶部开口的桶状结构；颈筒的一端与坩埚本体的顶部开口对接，另一端作为供蒸镀材料逸散的出口；其中，沿远离坩埚本体的方向，颈筒的口径先减小后增大。后者包括前者。由于坩埚本体的顶部开口处设置有颈筒，且沿远离坩埚本体1的方向颈筒的口径设置成先减小后增大，这样沙漏状的颈筒可以对坩埚本体的喷溅出来热融化状态下的蒸镀材料进行较好的阻挡，从而解决了现有的蒸镀坩埚在使用时存在的蒸镀材料易喷溅到基材、影响蒸镀品质的问题。 |
