蒸发源
基本信息
| 申请号 | CN202023171146.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214881785U | 公开（公告）日 | 2021-11-26 |
| 申请公布号 | CN214881785U | 申请公布日 | 2021-11-26 |
| 分类号 | C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 林文晶;彭虎 | 申请（专利权）人 | 上海升翕光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 沈逸弢 |
| 地址 | 200540上海市金山区夏宁路666弄62号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请提供一种蒸发源，对安装于容器上的喷嘴部进行多种布置，使得蒸镀到基材上的蒸镀材料厚度均匀，保证了蒸镀产品的质量。 |
