一种真空灌晶装置

基本信息

申请号 CN202023307348.5 申请日 -
公开(公告)号 CN214278583U 公开(公告)日 2021-09-24
申请公布号 CN214278583U 申请公布日 2021-09-24
分类号 G02F1/1341(2006.01)I 分类 光学;
发明人 吴伟 申请(专利权)人 苏州汉朗光电有限公司
代理机构 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 唐静芳
地址 215123江苏省苏州市工业园区华云路1号桑田岛科创园1号楼8楼
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供一种真空灌晶装置,包括圆筒形腔体罩、液晶盒固定机构、橡胶圈、下玻璃基板和液晶承载容器;圆筒形腔体罩通过橡胶圈安装在下玻璃基板上,与下玻璃基板构成一密闭腔体;液晶盒固定机构竖直安装在密闭腔体内,其与下玻璃基板临近的一端设置有用于夹持至少一个液晶盒的夹具;液晶承载容器放置在下玻璃基板上,位于液晶盒夹具正下方;液晶盒固定机构在外力作用下沿竖直方向移动,使夹持的液晶盒的灌注口向下移动至与液晶承载容器内的液晶完全接触或者向上移动至液晶盒的灌注口与液晶承载容器的垂直距离不小于预设距离阈值。本实用新型能够能够对液晶混合物进行完整评测的同时,降低操作难度,提高灌注便利性,缩短灌注时长。