一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液及其使用方法
基本信息
| 申请号 | CN201910544828.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110195229B | 公开（公告）日 | 2021-05-14 |
| 申请公布号 | CN110195229B | 申请公布日 | 2021-05-14 |
| 分类号 | C23F1/26;C09K13/08 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李少平;张庭;贺兆波;王书萍;冯凯;尹印 | 申请（专利权）人 | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 宜昌市三峡专利事务所 | 代理人 | 成钢 |
| 地址 | 443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液及使用方法，主要成分包括磷酸、硝酸、醋酸、氟化合物、多元羧酸以及超纯水。首先，利用硝酸将钨和氮化钛氧化；醋酸是为了抑制硝酸的电离，提高体系的氧化能力（硝酸）；磷酸作为缓冲溶液，起到提供氢离子的作用，在蚀刻过程中保持蚀刻速率的稳定；氟化合物和多元羧酸胺作为钛离子和钨离子的络合剂，平衡氮化钛和钨的蚀刻速率。本发明的蚀刻液能同时蚀刻钨和氮化钛，并使钨和氮化钛的蚀刻速率差≤0.01nm/min，基本保持一致。 |
