一种去磨纹的硅蚀刻液
基本信息
| 申请号 | CN202011139447.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112251233B | 公开（公告）日 | 2021-09-07 |
| 申请公布号 | CN112251233B | 申请公布日 | 2021-09-07 |
| 分类号 | C09K13/06;C09K13/08;C23F1/24 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 万杨阳;郝晓斌;贺兆波;尹印;张庭;冯凯;王书萍;张演哲;钟昌东;李鑫;蔡步林 | 申请（专利权）人 | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 宜昌市三峡专利事务所 | 代理人 | 成钢 |
| 地址 | 443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种去磨纹的硅蚀刻液。该蚀刻液由硝酸、硝酸羟胺、氟磺酸、二氟化氢铵、二氟化氙、硫酸、增稠剂和去离子水组成。其中增稠剂可以是聚丙烯酰胺、己醇、辛醇、聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮等中的任意一种。本发明中硝酸羟胺与氟磺酸反应生成氢氟酸，二氟化氙在酸性环境下缓慢分解生成氢氟酸，均增加蚀刻液组合物中的氢氟酸的浓度，能够抑制上述蚀刻液组合物的经时变化，维持稳定的蚀刻速率。本发明的去磨纹蚀刻液能够直接用于磨片的背面打毛工艺，蚀刻掉较深的机械磨纹，省略了抛光去磨纹工序，节约了成本，提高生产效率，同时也能维持稳定的蚀刻寿命。 |
