一种低选择性的BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻液
基本信息
| 申请号 | CN202011181031.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112410036B | 公开（公告）日 | 2021-09-07 |
| 申请公布号 | CN112410036B | 申请公布日 | 2021-09-07 |
| 分类号 | C09K13/08;C09K13/10;H01L21/311 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 张庭;贺兆波;郝晓斌;李鑫;万杨阳;王书萍 | 申请（专利权）人 | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 宜昌市三峡专利事务所 | 代理人 | 成钢 |
| 地址 | 443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种低选择性的BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻液，主要成分包括氢氟酸、有机溶剂、含氟化合物、胺类。本发明的蚀刻液中氢氟酸用于蚀刻BPSG和PETEOS薄膜；有机溶剂用于降低蚀刻液对BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率，使蚀刻反应易于控制；含氟化合物作为氟离子缓释剂，提供氟离子，稳定蚀刻液的蚀刻速率和延长蚀刻液的使用寿命；胺类用于降低BPSG薄膜的蚀刻速率，使BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率选择比接近于1。本发明所述的蚀刻液能够使BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率选择比稳定在1.1±0.2。 |
