半导体材料清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202020975309.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212652271U | 公开（公告）日 | 2021-03-05 |
| 申请公布号 | CN212652271U | 申请公布日 | 2021-03-05 |
| 分类号 | B08B3/02(2006.01)I;F26B21/00(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 卢鹏荐;曾小龙;张林 | 申请（专利权）人 | 武汉拓材科技有限公司 |
| 代理机构 | 湖北天领艾匹律师事务所 | 代理人 | 胡振宇 |
| 地址 | 436032湖北省鄂州市葛店开发区光谷联合科技城C3-3栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了半导体材料清洗装置，属于材料清洗技术领域，其包括散热箱，所述散热箱的上表面与清洗箱的下表面固定连接，所述清洗箱的左侧面与供液箱的右侧面固定连接，所述散热箱的下表面与电机的上表面固定连接。该半导体材料清洗装置，通过设置加热器、电机和转盘，控制面板控制不同导液管表面的电磁阀，使其水泵抽出不同储液罐内的溶液，随后溶液在加热器加热到预定温度后，通过汇聚管进入清理管内，随后在清理管内部加压并通过喷淋头喷出，依次通过不同溶液进行化学清洗、蒸馏纯水冲洗和去离子水冲洗的步骤，水流通过弧形漏水板迅速流出，并汇聚到废液回收盒内，同时电机通过转盘带动晶圆片缓慢旋转，使其清洗更为均匀充分。 |
