一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置
基本信息
| 申请号 | CN202010275953.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111366087B | 公开（公告）日 | 2022-03-08 |
| 申请公布号 | CN111366087B | 申请公布日 | 2022-03-08 |
| 分类号 | G01B11/06（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 张传维;王鑫辉;李伟奇;郭春付;杨康 | 申请（专利权）人 | 武汉颐光科技有限公司 |
| 代理机构 | 武汉蓝宝石专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 谢洋 |
| 地址 | 430000湖北省武汉市东湖新技术开发区汤逊湖北路33号华工科技园·创新基地办公研发楼18栋4层5、6、7室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及光学薄膜测量技术领域，特别涉及一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置，包括：光路组件、载物组件及机架组件，载物组件设置在机架组件上；光路组件连接在机架组件上；光路组件用于对载物组件上的薄膜进行光学测量。本发明提供的可局部测量的显微成像膜厚测量装置，光源可同时作为测量光源和照明光源，不仅能发出测量光束，同时能提供对测量区域标记的光束，不需要另外设置照明光源，可避免对测量光源带来杂散光，提高了测量结果的准确性。 |
