一种薄膜厚度提取方法及系统
基本信息
申请号 | CN202111479093.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114383516A | 公开(公告)日 | 2022-04-22 |
申请公布号 | CN114383516A | 申请公布日 | 2022-04-22 |
分类号 | G01B11/06(2006.01)I | 分类 | 测量;测试; |
发明人 | 石雅婷;郭春付;李江辉;李伟奇;张传维 | 申请(专利权)人 | 武汉颐光科技有限公司 |
代理机构 | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | 范三霞 |
地址 | 430000湖北省武汉市东湖新技术开发区金融港四路10号6号楼(自贸区武汉片区) | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种薄膜厚度提取方法及系统,该方法包括:获取待测样件的测量光谱;确定样件膜系结构和每一层膜的光学常数;通过参数分离对正向模型进行分解,离线进行薄膜厚度无关的矩阵相乘运算;在线进行薄膜厚度相关的矩阵运算,得到仿真光谱;通过库匹配或非线性回归调整待测参数取值,直至仿真光谱与测量光谱匹配,得到待测薄膜厚度取值。通过该方案可以减少正向建模过程中的运算量,提高正向建模效率,进而提高薄膜厚度提取效率。 |
