一种薄膜的测量方法
基本信息
| 申请号 | CN202010276441.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111426275B | 公开（公告）日 | 2021-12-28 |
| 申请公布号 | CN111426275B | 申请公布日 | 2021-12-28 |
| 分类号 | G01B11/06（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 张传维;王鑫辉;李伟奇;郭春付;杨康 | 申请（专利权）人 | 武汉颐光科技有限公司 |
| 代理机构 | 武汉蓝宝石专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 谢洋 |
| 地址 | 430000湖北省武汉市东湖新技术开发区汤逊湖北路33号华工科技园·创新基地办公研发楼18栋4层5、6、7室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及光学测量技术领域，特别涉及一种薄膜的测量方法，通过将黑样件放在样品台上，测量反射率谱为0的黑样件反射光强谱；将厚度已知的测量样件放在样品台上进行测量，利用光谱仪获取标准样件的反射光强谱；测量标准样件时对应的黑样光强；找到局部测量区域后关闭照明光源，利用光谱仪获取待测样件的反射光强谱；计算待测样件的实际测量反射率谱；假定待测样件的膜厚序列，通过计算获取相对应的反射率谱序列；通过表达拟合程度，拟合程度最佳时所对应的厚度d为待测样件膜厚。本发明提供的薄膜的测量方法，可实现对样品的局部区域精确测量。 |
