一种Oligo-dT亲和层析填料
基本信息
| 申请号 | CN202111362343.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114054006A | 公开（公告）日 | 2022-02-18 |
| 申请公布号 | CN114054006A | 申请公布日 | 2022-02-18 |
| 分类号 | B01J20/286（2006.01）I;B01J20/30（2006.01）I | 分类 | 一般的物理或化学的方法或装置; |
| 发明人 | 刘劲松;戚紫燕;王捷;刘刚;金百胜;林生跃;赵光耀;江必旺 | 申请（专利权）人 | 苏州纳微科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州华博知识产权代理有限公司 | 代理人 | 何蔚 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市工业园区百川街2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种Oligo‑dT亲和层析填料，以表面亲水的、具有多羟基亲水官能团的聚合物微球为基球，通过聚合物微球表面的羟基将dT核苷酸单体键合生成oligo‑dT配基到聚合物表面而制得。本发明相比常规Oligo‑dT亲和填料具有更高的mRNA载量以及更高的mRNA回收率，还具有比常规oligo‑dT亲和填料更好的耐碱性。本发明制备方法简单，不需要现有技术中oligo‑dT亲和填料生产所需要的oligo‑dT配基合成与纯化，可以大大降低亲和填料的生产成本，从而降低mRNA的生产纯化成本。 |
