一种钕铁硼磁体及钕铁硼磁体表面镀层的方法
基本信息
申请号 | CN201711236461.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN107937879A | 公开(公告)日 | 2018-04-20 |
申请公布号 | CN107937879A | 申请公布日 | 2018-04-20 |
分类号 | C23C14/35;C23C14/32;C23C14/16;C23C14/08;C22C38/12;C22C38/32;C22C38/06;C22C38/16;C22C38/10;C22C38/14 | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 毛华云;梁礼渭 | 申请(专利权)人 | 金力永磁(宁波)科技有限公司 |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 江西金力永磁科技股份有限公司;金力永磁(宁波)科技有限公司 |
地址 | 341000 江西省赣州市经济技术开发区金岭西路81号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供了一种表面镀有防腐层的钕铁硼磁体,包括钕铁硼磁体,复合在钕铁硼磁体表面的多弧离子镀层,以及复合在多弧离子镀层表面的磁控溅射镀层。本发明还提供了一种钕铁硼磁体表面镀层的方法。本发明在磁体表面先仅采用了多弧离子镀,对磁体表面进行打底整平,再采用磁控溅射进行二次镀膜的方式,将多弧镀膜效率高,膜结合好和磁控溅射膜的致密性有效结合起来,既提高了镀层的致密性,又提高了膜的防腐性能,得到了表面镀有防腐层的钕铁硼磁体。本发明提供的钕铁硼磁体表面镀层的方法工艺简单,适合规模化工业生产。 |
