一种采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层的方法
基本信息
| 申请号 | CN202010143434.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111235562A | 公开（公告）日 | 2020-06-05 |
| 申请公布号 | CN111235562A | 申请公布日 | 2020-06-05 |
| 分类号 | C23C24/04 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 熊天英;唐俊榕;杜昊;王吉强;刘晗珲;沈艳芳;杨颖;毛天亮 | 申请（专利权）人 | 中国电子科技集团公司第四十七研究所 |
| 代理机构 | 沈阳优普达知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 张志伟 |
| 地址 | 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于防护涂层制备领域，具体涉及一种采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层的方法。该方法包括以下步骤：(1)采用冷气动力喷涂技术，将Al或Ti金属粉末喷涂到器件基体表面，形成金属打底涂层；(2)采用冷气动力喷涂技术，将纯Ta粉喷涂到打底涂层上，形成Ta涂层。本发明有效地避免了制备钽涂层需要的高温条件，以及由此带来的氧化等性能降低问题。本发明采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层，可以用于电子封装器件外表面的抗辐照防护。 |
