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一种便于调节高度的双工位直投式光刻机

基本信息

申请号 CN201922012313.X 申请日 -
公开（公告）号 CN211427044U 公开（公告）日 2020-09-04
申请公布号 CN211427044U 申请公布日 2020-09-04
分类号 G03F7/20(2006.01)I 分类 -
发明人 肖磊 申请（专利权）人 上海探跃半导体设备有限公司
代理机构 北京华识知识产权代理有限公司 代理人 上海探跃半导体设备有限公司
地址 200120上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种便于调节高度的双工位直投式光刻机，包括工作箱、转动杆、螺杆、电动机和置物板，所述工作箱上安装有传送带，且工作箱上安装有第一支撑板，并且第一支撑板与第二支撑板相互贴合，所述转动杆安装在连接板上，且转动杆与推动杆相互连接，并且推动杆与承接板相互连接，所述螺杆与工作箱相互连接，且螺杆与承接板相互连接，并且工作箱与转动轴相互连接。该便于调节高度的双工位直投式光刻机，采用可升降装置，实现对第二支撑板高度的调节，从而使第二支撑板上安装的装置高度发生改变，便于对不同厚度的材料进行光刻，采用卡合结构，在光刻机工作过程中无法对装置打开，从而防止工作中的光刻机对工作人员造成伤害。