一种磁控靶布气结构
基本信息
| 申请号 | CN201010585115.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102534521A | 公开（公告）日 | 2012-07-04 |
| 申请公布号 | CN102534521A | 申请公布日 | 2012-07-04 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王福同;郭东民;徐刚;冯彬;安赟;佟辉;张以忱;刘定文;佟雷;杨颖 | 申请（专利权）人 | 中科能（青岛）节能工程有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司;中科能（青岛）节能工程有限公司;南车四方车辆有限公司 |
| 地址 | 110168 辽宁省沈阳市浑南新区新源街一号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于磁控溅射领域，具体地说是一种磁控靶布气结构，包括靶座、极靴、靶材、磁钢及屏蔽罩，其中靶座位于样品的下方，在靶座内设有极靴，靶座的顶部安装有靶材，靶座及靶材外设有屏蔽罩；所述磁钢安装在极靴上，磁钢的上端面沿轴向截面为斜角；在屏蔽罩与靶座之间设有溅射气体通道，溅射气体通过该溅射气体通道被引导至靶材的上表面；在屏蔽罩的外部设有反应气体的进气管，反应气体通过该进气管被引导至样品的下表面。本发明提高了靶材和工作气体的利用率，提高了镀膜的均匀性，降低了成本，提高收益。 |
