外延硅片预处理系统
基本信息
| 申请号 | CN202020747754.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211605111U | 公开（公告）日 | 2020-09-29 |
| 申请公布号 | CN211605111U | 申请公布日 | 2020-09-29 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 康宏;王作义;卞小玉;石广宁;何传奇 | 申请（专利权）人 | 四川广瑞半导体有限公司 |
| 代理机构 | 成都行之专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 唐邦英 |
| 地址 | 629000四川省遂宁市国开区玉龙路598号创新创业孵化中心4011号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了外延硅片预处理系统，包括空气压缩机、臭氧发生机、鼓泡瓶、流量计和喷射装置；所述空气压缩机、臭氧发生机、鼓泡瓶通过第一进气管顺次连接，所述第一进气管的出口端插入鼓泡瓶内水面以下；所述鼓泡瓶和喷射装置通过排气管连接，所述排气管上设置有流量计，所述排气管的入口端在鼓泡瓶内水面以上；所述喷射装置用于将臭氧喷射在外延硅片的表面，所述鼓泡瓶内的水保持恒温。本实用新型解决了采用双氧水浸泡方式导致操作难度大、工作量大问题。 |
