一种稳定均匀的气流出气装置
基本信息
| 申请号 | CN201921122024.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210332160U | 公开（公告）日 | 2020-04-17 |
| 申请公布号 | CN210332160U | 申请公布日 | 2020-04-17 |
| 分类号 | B01D53/02 | 分类 | 一般的物理或化学的方法或装置; |
| 发明人 | 戚励;赵静 | 申请（专利权）人 | 北京市飞达捷能气体分离技术有限公司 |
| 代理机构 | 成都其高专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 北京市飞达捷能气体分离技术有限公司 |
| 地址 | 101102 北京市通州区中关村科技园区金桥科技产业基地景盛南四街13号2A | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种稳定均匀的气流出气装置，包括吸附塔本体和一级均流组件，所述一级均流组件设置于该吸附塔本体底部，且所述一级均流组件上设置有多个二级均流组件，多个所述二级均流组件以发散状分布于所述一级均流组件外侧，且所述一级均流组件底部设置有进气管，所述吸附塔本体外侧对应二级均流组件设置有多组通孔。有益效果在于：本实用新型通过对进气管排出的气体进行两次扩散分流，增加进气管内气体导入吸附塔本体过程中的气体通道数量，以提高进气管排出气体的均匀稳定性，同时确保气体与吸附塔本体内吸附介质均匀接触，提高净化效果。 |
