一种用于外延设备的气体管路及外延设备
基本信息
| 申请号 | CN202122971524.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216972741U | 公开（公告）日 | 2022-07-15 |
| 申请公布号 | CN216972741U | 申请公布日 | 2022-07-15 |
| 分类号 | C30B25/14（2006.01）I;C30B25/08（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 尹宁;燕春;杨进 | 申请（专利权）人 | 江苏天芯微半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 上海元好知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 214028江苏省无锡市新吴区行创四路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及用于外延设备的气体管路及外延设备，所述用于外延设备的气体管路包括：上游管路、下游管路、可拆卸紧固装置、限流器和防沉积环，所述防沉积环设置在限流器与上游管路的接头之间和/或限流器与下游管路的接头之间，所述防沉积环包括面对限流器的第一表面和与之相对的第二表面，所述第二表面具有从所述接头的内壁向限流器延申的坡面。所述坡面可以很好地防止工艺气体在气体管路的直角角落沉积，从而抑制了沉积物形成颗粒物进入反应腔，避免了工艺的失败。 |
