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用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台

基本信息

申请号 CN202011296054.9 申请日 -
公开（公告）号 CN112397439A 公开（公告）日 2021-02-23
申请公布号 CN112397439A 申请公布日 2021-02-23
分类号 H01L21/687(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 韩晓翠;刘峰;康建;陈向东 申请（专利权）人 马鞍山杰生半导体有限公司
代理机构 北京华智则铭知识产权代理有限公司 代理人 沈抗勇
地址 243000安徽省马鞍山市经济技术开发区宝庆路399号1栋
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及基台技术领域，且公开了一种用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台，包括底座，所述底座的顶部设置有基台主体，基台主体上开设有两个固定孔，两个固定孔内滑动连接有第一挡板和第二挡板，第一挡板和第二挡板的底端均延伸至基台主体的下方并与底座的顶部固定连接，第一挡板和第二挡板的顶端均延伸至基台主体的上方并固定连接有固定块，第一挡板和第二挡板相互靠近的一侧均开设有第一滑槽，两个固定孔相互靠近的一侧内壁上均固定连接有第一滑块。本发明能够快速方便的对基台主体的高度调节和定位，操作简单，方便，方便了加工生产，省时省力，提高了工作效率，满足了使用者的需要。